全自动光刻机又名掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,常用的光刻机是掩膜对准光刻。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
全自动光刻机样片调平机构包括球座和半球。调平过程中首先对球座和半球通上压力空气,再通过调焦手轮,使球座、半球、样片向上运动,使样片与掩模相靠而找平样片,然后对二位三通电磁阀将球座和半球切换为真空进行锁紧而保持调平状态。全自动光刻机为了全方位工作,需要360°旋转,这就要用到滑环,默孚龙推荐使用MFO系列光纤滑环。
默孚龙MFO系列光纤滑环主要特点:
1.连接接头有G1/8、G1/4 2种规格
2.插入损耗小,转速高
3.无接触、无摩擦,寿命长,单芯可达1亿转以上
4.体积小、重量轻,密封等级高
5.光纤传递信号,无泄密,无电磁干扰,可以远距离传输
全自动光刻机作为芯片制造的核心设备,长期被国外少数国家垄断,近年国产全自动光刻机得到大力发展,作为全自动光刻机的核心默孚龙MFO系列光电滑环不负使命,为“中国芯”做出自己的贡献,得到广大芯片制造商好评。
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